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以矽為基礎的電子晶片過去三十年間徹底的改變了我們的生活。由矽元件組成的積體電路控制了所有的設備﹐從電話到汽車﹐更別說是網路了。矽工業的快速發展使得我們不停的有更快更小更聰明的電子設備可以使用﹐然而﹐積體電路可無限的縮小嗎？矽晶片的發展是否有一個極限？在6月24日的Nature中 D. A. Muller等人發表了一篇文章(Nature 399 p.758-p.761) 討論矽晶片的物理極限。在該文章中Muller等人使用掃描穿遂式電子顯微鏡中的electron-energy- loss spectroscopy來測量gate oxide元件在原子尺度上的化學組成與電子結構。其結果證明積體電路中最小的元件gate oxide的極限厚度為四個矽原子。當厚度小於四個矽原子時電流將會穿透gate oxide 而造成晶片的功能失效。在同一期Nature中Max Schulz寫了一篇回顧性文章 (Nature 399 p. 729 - p.730)來討論這項發現的意義。文章中除了回顧矽晶片的發展﹐還指出依據Semiconductor industry roadmap﹐半導體工業將會在西元2012年達到這個極限﹐屆時科學家們必須想出其他點子來解決這個問題。
電腦的極限 
：莖勁人王 
